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本文標(biāo)題："氮化鋁鈦的鋁濃度范圍為不小于70%-顯微鏡常識"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2013-2-24 19:41:50 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
運用射頻磁控濺鍍系統(tǒng)，將欲成長的兩種保護(hù)性硬魔之薄膜結(jié)構(gòu)：碳化鎢及矽基板 -氮化鋁鈦，以及碳化鎢及矽基板-氮化鋁（中介層）-氮化鋁鈦，
以反應(yīng)性濺鍍的方式成長。相對于真空電弧鍍膜，射頻磁控濺鍍的優(yōu)點在于擁有較佳的表面平整度，且可精確控制薄膜厚度，有較一致性的披覆效果，
且對于基板有較佳的附著性。
氮化鋁鈦的鋁濃度范圍為不小于70%。在這兩種薄膜結(jié)構(gòu)成長完成之后，施予不同溫度下的真空退火處理，使其產(chǎn)生相變化。
而在退火前后的硬度、附著力、表面粗糙度等則分別藉由奈米硬度機、刮痕試驗機、原子力顯微鏡量測之。
構(gòu)橫切面電子顯微鏡術(shù)可以詳細(xì)的研究整個薄膜的微結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)變以及介面接合區(qū)，
本研究以高解析電子顯微鏡詳細(xì)研究薄膜結(jié)構(gòu)的變化，并將觀察結(jié)果連結(jié)到機械性質(zhì)。
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