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內(nèi)應(yīng)力的產(chǎn)生,維持鍍層表面的平整性。
所使用的導(dǎo)光板圖樣光罩,其圖樣尺寸大小約為100 μm。 在矽晶片上進(jìn)行光阻涂佈可得到厚度約為15μm 的光阻薄膜,
而后進(jìn)行曝光顯影得到導(dǎo)光板圖樣,并經(jīng)由熱流變而形成透鏡形狀,最后經(jīng)電鑄程序得到導(dǎo)光
板翻模模仁。
導(dǎo)光板翻模模仁的金相
顯微鏡照片。 由電子顯微鏡觀察顯示,
導(dǎo)光板模仁的圖樣完整且表面平整均勻
鎳鐵合金電鑄導(dǎo)光板經(jīng)ICP-AES 分析結(jié)果,顯示鍍層中Fe 的含量約為79%,經(jīng)由Vicker's 測試顯示硬度約
為HV500,較純鎳電鑄的硬度(約為HV300)高。 另外,由TGA 熱分析得知鎳鐵合金熔點(diǎn)約在1447℃,略低于
純鎳的熔點(diǎn)1453℃。 由此結(jié)果顯示具有高硬度與低熱膨脹系數(shù)的鎳鐵合金電鑄極適合于導(dǎo)光板模具之翻模制作。
在導(dǎo)光板電鑄翻模制程中會產(chǎn)生電鑄層變形,分析其原因?yàn)殄円褐蠸accharin 的成分改變與鍍液滲入矽晶片圖
樣母模的鍍銀層中而造成鍍層在電鍍過程中產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力變形的現(xiàn)象
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