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本文標(biāo)題:"精密加工工件表面粗糙度測(cè)量?jī)x器-測(cè)量顯微鏡"

新聞來源:未知 發(fā)布時(shí)間:2013-6-5 22:43:25 本站主頁地址:http://www.y7853.cn

由于工業(yè)的快速發(fā)展,使得各種精密加工產(chǎn)業(yè)急遽增加,而加工物件的表面平整度與缺陷,也日益要求精細(xì)。而非接觸式量測(cè)以光學(xué)法量測(cè)表面粗糙度,并不會(huì)對(duì)待測(cè)物造成破壞,
也提供不錯(cuò)的解析度,即時(shí)性的量測(cè)優(yōu)點(diǎn),所以已經(jīng)成為主流
趨勢(shì)。以下是一些光學(xué)法量測(cè)表面粗糙度的文獻(xiàn)回顧。在1972
年Robert A. Sprague[1]提出以空間相干光的概念,以測(cè)得表面
粗糙度�?臻g相干光(具有寬的光譜的頻寬)情況下,在一個(gè)透鏡
的成像平面附近形成一個(gè)斑點(diǎn)圖案。當(dāng)粗糙和光照度的相干長(zhǎng)
度大小可比較時(shí),將會(huì)發(fā)現(xiàn)斑點(diǎn)的對(duì)比與表面粗糙有關(guān)。
1986 年D. Pantzer 等人[2]提出用兩道同心光束
(concentric beams)掃描待測(cè)物,利用兩​​​​道光的相位差,
取得相對(duì)應(yīng)的高度

差。當(dāng)理論的高度解析度到0.4nm,橫向解析度可到3μm。
 1998 年C. Chou 等人[3] 提出一個(gè)改良型的共光程外差輪廓
儀,比Zeeman雷射更具有對(duì)稱性及理想化的共光程結(jié)果,
也可降低Zeeman 雷射的相位誤差,其相位穩(wěn)定度為±2%/h。
實(shí)驗(yàn)表明系統(tǒng)垂直方向解析度可達(dá)0.2nm,
而在27mm的掃描范圍內(nèi),表面輪廓量測(cè)的重覆性可達(dá)到
0.5nm。本文提出以表面電漿共振(SPR)結(jié)合共光程外差干涉術(shù)
(Common-path Interferometry)來測(cè)量平板玻璃內(nèi)部之平整度與
缺陷。在本架構(gòu)中,具有簡(jiǎn)化架構(gòu)、即時(shí)性量測(cè)等優(yōu)點(diǎn)

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