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本文標(biāo)題："金相制樣的步驟簡介-金屬試樣機械拋光機儀器廠商"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2014-4-1 15:25:40 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
金相制樣的步驟簡介-金屬試樣機械拋光機儀器廠商
機械拋光中的精拋：經(jīng)粗拋光后的試樣還需要進行精拋光。精拋
光的目的：是把試樣檢驗面磨成一個平整光亮沒有劃道及因磨制操作
產(chǎn)生的其他缺陷，一般精拋光到試樣上的磨底完全除去而表而像鏡面
時為止。
精拋光所用的設(shè)備和粗拋光所用的設(shè)備基本相同，拋光盤直徑一
般為200^-250毫米，轉(zhuǎn)速（約為400-1450轉(zhuǎn)/ 分之間）根據(jù)試樣要求
而定，所有拋光材料（布和粉）也須根據(jù)檢驗的目的和被磨材料的性
質(zhì)和狀態(tài)來定
對于精拋用的磨料一般采用經(jīng)過水選的極細(xì)氧化鋁粉或氧化鎂粉，
顆粒直徑一般在0.3 μ~1 μ之間。水選方法是將磨碎的氧化鋁粉放
入玻璃缸或瓷缸內(nèi)，加入適量的水，調(diào)成稀漿，靜置一段時間，待較
粗顆粒下沉后，用虹吸法將上層液體吸入另一玻璃缸內(nèi)靜置，使其中
極細(xì)的氧化鋁（或氧化鎂）粉顆粒下沉后即可使用。對硬質(zhì)合金等特
硬材料，要用金剛石粉膏。
精拋光注意事項基本上和粗拋光相同，但還必須特別注意：
（1 ）要更加注意清潔，不使較粗顆粒的拋光粉混入拋光盤上和
精拋用的水漿中；
（2 ）試樣在拋光盤上精拋時，用力要輕，要注意使之均衡，務(wù)
求平穩(wěn)，須從盤的中心至邊緣來回拋光，并不時滴加少許的磨粉懸浮
液，表面水膜能在2-3 秒鐘內(nèi)完全蒸發(fā)消失為宜。在拋光的完成階段，
可將試樣與拋光盤的轉(zhuǎn)動方向成相反方向拋光；
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