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本文標(biāo)題："顯微鏡觀察巖石樣品的制備步驟-磨片和拋光制作方法"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2014-5-1 11:54:16 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
顯微鏡觀察巖石樣品的制備步驟-磨片和拋光制作方法
磨片
磨片的步驟如下述。每個(gè)步驟之間，樣品均需在超聲波清洗器中清洗，并用去離子水
沖洗千凈。各粒度磨料紙是用卡圈卡在圓形轉(zhuǎn)盤上的，磨時(shí)用自來水冷卻。
(1)用240目碳化硅紙，把過剩的環(huán)氧樹脂磨掉，要磨出一個(gè)平的、而不是斜的面來，
但不要讓巖石的表面裸露出來。
(2)用400目碳化硅紙，將巖石表面磨露出來，但不要超過澆注層。
(3)附加的(不是必須的)步驟:如果澆注層已有部分脫落，可用伊波菲膠再次澆注
已磨表一面，并在50℃下烘2 h
(4)用600目碳化硅紙或用一塊比利時(shí)油石，把經(jīng)過(2)和(3)步驟的表面磨成一
個(gè)更加平整的面。在用磨刀石之前，要在一塊玻璃板上用600目的氧化鋁磨料對磨刀石
作凈化處理。
(5)繼續(xù)用800目的碳化硅紙或者在一變速轉(zhuǎn)盤上用800目的氧化鋁磨料加水研
磨，要磨出一個(gè)平滑的只帶有微細(xì)條痕的平面來。
(6)附加的步驟:如果需要，可繼續(xù)用1200和1500目的氧化鋁磨料研磨。
拋光
我們采用金剛石研磨膏，而不是氧化鋁，目的是使平面上的起伏減到最
小程度。每個(gè)拋光步驟之間，樣品均需在超聲波清洗器中清洗，并用去離子
水沖洗干凈。
(1)經(jīng)過800目研磨后的平滑帶細(xì)痕的平面直接用3μm金剛石研磨膏來打
去所有的細(xì)痕。作法是將待拋光的平面朝上，用定位(或稱就地)拋光的方法
來拋光該平面。所謂定位拋光就是在一根直徑為1 cm的金屬桿上，其平頭端
面裝有特斯默特(texmet)布(此布背面有膠，便于粘貼)，用此工具和3 μm
金剛石研磨膏對拋平面進(jìn)行拋光(詳見第五章中對定位拋光的描述)。
(2)用充填有1μm金剛石研磨膏的平頭金屬桿端面上的特斯默特布，在
油中繼續(xù)對面朝上的待拋平面作定位拋光。
(3)最后用1/4 μm金剛石研磨膏的定位拋光技術(shù)來結(jié)束整個(gè)拋光工序。
在顯微鏡下檢查1μm的條紋和刻痕是否已除盡。
(4)附加的步驟:可用過氧化鐵或氧化鉻作一擦而過的輕拋光。在清洗和
鏡下檢查之間只能輕輕擦1-2下;拋的次數(shù)多了反而會在拋光面上出現(xiàn)高低起
伏。
最終拋好光的表面應(yīng)該是一個(gè)平滑、幾乎沒有刻痕、沒有起伏的鏡面。
這時(shí)樣品的拋光面準(zhǔn)備才算完畢。
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