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顯微鏡的一般光學(xué)理論,實(shí)驗(yàn)室中常用光學(xué)儀器
電子光學(xué)和真空技術(shù)的建立和發(fā)展,大大提高了顯微鏡的分
辨能力(提高了整整一級(jí)以上)。第四章中介紹的電子顯微鏡最
近在金相實(shí)驗(yàn)室中已占有鞏固的地位,并且在工廠實(shí)驗(yàn)室中越來
越得到廣泛的運(yùn)用。利用光學(xué)顯微鏡的一般光學(xué)理論,很容易就
能說明穿透式電子顯微鏡是怎樣作用的,因此,在第四章中只談
到電子顯微鏡與光學(xué)顯微鏡所不同有一些特點(diǎn)。
可以指出,利用目的物的反射和放射的直接法,目前還處在
發(fā)展初期。攝取金屬試樣表面印膜的間接法,目前是金查學(xué)是普
遍使用的一種主要的而又幾乎是唯一的方法,本書用很大的篇愊
來闡述這種方法。在第四章中不僅說明了電子顯微鏡的高倍放大
率,而且介紹了電子顯微鏡的其他一些特點(diǎn)。電子顯微鏡的視野
深度很大,所以放大倍數(shù)極高,而在測定晶體的多棱度和位向時(shí)
的效果就比用光學(xué)顯微鏡要大得多。
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