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(點(diǎn)擊查看產(chǎn)品報(bào)價(jià))
襯底表面高的粗糙度膜結(jié)構(gòu)厚度用
金相顯微鏡
新凝聚的原子形成二維的表面層,其特點(diǎn)是具有高的表面原
子遷移率,在很多方面類似液相.薄膜結(jié)構(gòu)受到原子表面遷移和
易動(dòng)表而層中形核的強(qiáng)烈影響,也受襯底表面原子結(jié)構(gòu)及其存在
深勢阱的影響,深勢阱促進(jìn)不均勻形核過程.在.真空情況下,
在晶體的襯底上這些勢阱可能與襯底表面高的粗糙度有關(guān),并與
原子臺階及其中的凸起物有關(guān).在低真空度的情況下,則與吸附
氣休的原子和氧化物小島等等有關(guān)。非晶形襯底的表面也有凹凸
不平,可促進(jìn)形核并導(dǎo)致不均勻的薄膜沉積。
具有很高的沉積速率和低的襯底溫度時(shí),原子運(yùn)動(dòng)被抑制,
可形成非晶態(tài)薄膜。薄膜與襯底的原子間結(jié)合力愈弱,則表面擴(kuò)
散速率愈大,并且形成孤立沉積物的幾率愈高,從而產(chǎn)生連續(xù)而
容易脫落的薄膜。這個(gè)現(xiàn)象是貴金屬原子所特有的。
若低揮發(fā)金屬沉積在另一低熔點(diǎn)金屬上,在交界面處常形成
合金.
如果在薄膜材料中,原子鍵能大于薄膜與襯底的原子鍵能,
并且薄膜原子表面遷移率高,則在多晶體薄膜中的晶核將具有擇
優(yōu)晶體學(xué)取向。如沉積原子移動(dòng)方向垂直于襯底,薄膜織構(gòu)為軸
向。薄膜中所有小晶體具有平行于襯底面的確定晶面,更嚴(yán)格地
說是平行于薄膜的外表面。但垂直此面的方向則是任意取向.
通常具有最低表面能的晶面都是平行于襯底的表面,薄膜晶
體表面能擇優(yōu)作用,這點(diǎn)也為甚至可在非晶形的襯底上形成這類
織構(gòu)的事實(shí)所證實(shí)。
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