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一般認為,真空鍍膜鍍到物體表面的薄膜,其物理性能
特征取決于許多結構缺陷。一般說來,薄膜與同樣物質的厚
件的物理性能不同,薄膜的物理性能不穩(wěn)定。就是說,塊狀
物體表面的電子散亂等特性可以忽略,而在薄膜狀況下,這
些特性就起作用了。
真空鍍膜是一種不用溶液的干式涂覆法,因此不存在廢
水公害間題。作為大規(guī)模電子束真空鍍膜裝置,據(jù)說以60米/
分的高速度,在400毫米寬的鋼板兩面鍍覆8微米厚的鋁膜,
用以鍍N鐵罐、瓶蓋以及燈泡燈頭。
單純鍍鋁的鋼板相比,預先鍍覆少量硅或鉻的化合物,然后再
鍍鋁,結果耐蝕性提高好幾倍,這種復合渡膜的方法,被認
為是有研究發(fā)展前途的。
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