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本文標(biāo)題："采用電子為光源的電子顯微鏡較光鏡放大倍數(shù)大10萬倍"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2015-7-3 14:04:17 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
采用電子為光源的電子顯微鏡較光鏡放大倍數(shù)大10萬倍
理論上采用電子作為光源的電子顯微鏡較光學(xué)顯微鏡放大倍數(shù)大
10萬倍，但由于種種原因，實(shí)際上只大幾百倍。
1、SEM和TEM工作原理
與光學(xué)顯微鏡的物鏡、目鏡對(duì)應(yīng)，電子顯微鏡的物鏡和目鏡分
別為電場(chǎng)和磁場(chǎng)透鏡。
電子射到樣品表面時(shí)產(chǎn)生多種粒子，通過檢測(cè)不同粒子得到不同
信息，如測(cè)定光電子功能，可得到結(jié)合能數(shù)據(jù)，SEM是研究二次電
子成像的一門技術(shù)，所謂二次電子是指入射電子轟擊樣品后，激發(fā)
原子的外層電子面歸射出來，它的能量較小，僅在0-50V之間，并
且來自樣品表面5-10nm的區(qū)域。像的襯度取決于樣品表面起伏狀態(tài)
和元素組成，因此可用于觀察表面形貌，由于立體感強(qiáng)、分辨率高
、制樣簡(jiǎn)單，應(yīng)用十分廣泛，TEM有基本原理是入射電子穿透薄的
樣品，讓這部分電子成像，即可得到透射電子像，選擇適當(dāng)條件還
可使透射電子產(chǎn)生衍射斑點(diǎn)，由此可計(jì)算晶體手晶格常數(shù)。
由于TEM的樣品要求穿透電子，因此應(yīng)盡可能薄，其制樣復(fù)雜一
些，主要有銅網(wǎng)-火棉膠法、超薄切片法、金屬薄膜法、真空噴鍍
、電解沉積、化學(xué)沉積。此外還有復(fù)型法，就是用一片對(duì)電子束透
明的薄片，將要觀察的金屬表面的浮雕“印”在薄片上，把印有浮
雕的薄片拿到電鏡內(nèi)觀察，這個(gè)薄片稱為“復(fù)型”。
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