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本文標(biāo)題："試樣表面的清潔和機(jī)械損傷微觀分析電子顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2015-7-27 2:27:53 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
在掃描電鏡的正常觀察條件下，其掃描電子像(包括二次電
子像，背反射電子像或吸收電子像)所顯示的襯度效應(yīng)主要有三
種，即表面形貌襯度，原子序數(shù)襯度和表面電場和磁場所貢獻(xiàn)的
襯度。但是，在特殊的光路條件下(例如在滿足觀察電子通道效
應(yīng)的電子束的電子光學(xué)條件下)，則所獲得的掃描電子像，除了能
顯示上述襯度效應(yīng)外，還包括有反映晶體位向和晶體缺陷的襯
度，這種反映晶體位向和晶體缺陷的襯度，稱為結(jié)晶學(xué)襯度。
理論分析表明，結(jié)晶學(xué)襯度是來源于電子通道效應(yīng)。在第二
章中曾經(jīng)指出，當(dāng)高能電子進(jìn)入到晶體試樣時，由于入射電子與
晶格中原子相互作用，將會發(fā)生散射過程。但是，入射電子被晶
格中原子的散射幾率是同電子束的入射方向有關(guān)，在入射角小于
衍射角的情況下，被背反射的幾率較大；反之，在入射角大于衍
射角的情況下，被背散射的幾率較小，這種現(xiàn)象稱為電子通道效
應(yīng)。在滿足通道電子束的觀察條件下，如果電子束的入射方向的
變化范圍比較大
對試樣要求
因?yàn)殡娮油ǖ佬?yīng)是發(fā)生在接近試樣的表面，故試樣表面的
清潔和不受機(jī)械損傷是十分重要的。經(jīng)驗(yàn)表明，只有在晶體的外
延層和晶體生長的表面，或經(jīng)過仔細(xì)化學(xué)拋光和電解拋光的試樣
表面，且表面清潔無沾污，才容易觀察到結(jié)晶學(xué)襯度。如果試樣
表面存在如下情況：(o)表面被污染；(b)表面受機(jī)械加工；
(c)表面是非晶態(tài)； (d)表面晶粒度過于細(xì)小，使能完
全滿足上述的電子光學(xué)條件，也觀察不到結(jié)晶學(xué)襯度。
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