---
---
---
(點(diǎn)擊查看產(chǎn)品報(bào)價(jià))
廣泛用來研究經(jīng)受變形與偏移的零件與結(jié)構(gòu)分析
顯微鏡
全息干涉儀
單次曝光、二次曝光和多次曝光這三種方法,構(gòu)成了全
息干涉測量法的基礎(chǔ).
按單次曝光法一開始記錄的即是被研究對象的全息圖.
顯影后,將全息圖嚴(yán)格對準(zhǔn)起始位置,這樣,復(fù)原的圖象就
準(zhǔn)確地疊加在物體上。然后,移動(dòng)被研究對象或使之變形,
進(jìn)而觀察干涉圖樣.
有兩個(gè)相干波參與產(chǎn)生干涉:直接來自物鏡的和從全息
圖復(fù)原的.與傳統(tǒng)的干涉測量法相似,可以將第一個(gè)波稱為
工作波,而將第二個(gè)波稱為基準(zhǔn)波.
單次曝光法有方便之處,它可以按實(shí)時(shí)以干涉圖樣變化
的形式記錄出對象的(工作波的)變化.有時(shí),正是在全息
圖已曝光的部位進(jìn)行全息圖的顯影,以此來消除壘息圖偏移
的危險(xiǎn).此法廣泛用來研究經(jīng)受變形與偏移的零件與結(jié)
構(gòu).
二次曝光法一開始記錄的是被研究對象在甲位置、而后
是在乙位置上的全息圖.復(fù)原時(shí),形成物體的兩幀已移動(dòng)的
圖象,而在其重疊區(qū)間觀察干涉圖樣.在研究小風(fēng)洞中的氣
體不均勻性時(shí),第一幀全息圖是在無氣流時(shí)記錄的,而第二
幀則是在模擬裝置鼓風(fēng)時(shí)記錄的.干涉圖樣是用通用的方
式——目視法、照相法與光電照相法來記錄的.
所有資料用于交流學(xué)習(xí)之用,如有版權(quán)問題請聯(lián)系,禁止復(fù)制,轉(zhuǎn)載注明地址
上海光學(xué)儀器一廠-專業(yè)顯微鏡制造商 提供最合理的
顯微鏡價(jià)格