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本文標(biāo)題："固體表面分析粗糙度測量輪廓測量光學(xué)儀器制造"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2015-12-16 10:43:11 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
固體表面分析粗糙度測量輪廓測量光學(xué)儀器制造
顯然，固體中質(zhì)點(diǎn)的活性，除與其化學(xué)鍵，化合價(jià)、半徑大小以
及環(huán)境溫度有關(guān)以外，和它在固體結(jié)構(gòu)中所處的位置也有很大的關(guān)
系，下面我們以簡立方晶系的離子晶體為例，定性地說明離子所處
位置與其活性的關(guān)系，這里采用直角座標(biāo)系是非常有利的，假設(shè)我
們考察的是具有氯化鈉型結(jié)構(gòu)的單晶，并以包圍的氧面體中之鎂離
子為具體對(duì)象，則有下列幾種典型的結(jié)構(gòu)狀態(tài)：
1、內(nèi)離子
它處于晶體內(nèi)部，并假定它處于直角座標(biāo)的原點(diǎn)上，附近晶格完
整，近鄰則為6配位的氧離子包圍，脫出功最大，能位最低，最穩(wěn)
定，這是在這個(gè)體系中活性最小的一類離子。
2、內(nèi)角離子
設(shè)它仍處于原點(diǎn)，但附近晶格已不完整，8個(gè)象限中有一象限的
離子全部空缺，即形成一個(gè)晶體內(nèi)角，所研究的離子正處于此內(nèi)角
頂上，它并沒有近鄰的氧離子完整地包圍起來，有可能缺少一個(gè)離
子，其所需脫出功當(dāng)然沒有內(nèi)離子大，穩(wěn)定性略差一些，亦即活性
比內(nèi)離子略大一些。
3、內(nèi)棱離子
情況和上述相似，但在8個(gè)象限中有相鄰兩個(gè)象空塊，即所研究
的離子處于此內(nèi)直角的棱邊中心，它的配位氧離子可能缺少1 個(gè)可
兩個(gè)，顯然，要想把這種離子取出，所作的或比前述情況又要少一
些，即其活性比前兩者又大些。
4、表面離子
如果朝某一邊的、相鄰4個(gè)象限的離子全部空塊，則我們有研究
對(duì)象便成了表面離子，可粗略地認(rèn)為其束縛力已有一半被去除，故
其活性又更大些。
5、外棱離子
和內(nèi)棱離子相反，直角座標(biāo)中只剩下相鄰兩象限有離子存在，處
于外棱中心離子束縛力，只約剩下1/4，取下這種離子是比較容易
的，故其活性大多了。
6、外角離子
即處于平行六面體頂角上的離子，可認(rèn)為它只剩下極少的一部分
束縛力了，其活性比前述5種都大。
上面只不過是一種粗略的分析，實(shí)際晶體的外形比上述的要復(fù)雜
得多，即不能“一刀切”，也不能存在半個(gè)或其它不足一個(gè)離子，
不過，盡管如此，通過上述分析我們不審可以得到一些定概念，即
尖端、外角、外棱及表面上的離子，都具有較大的活性，而內(nèi)角、
內(nèi)棱離子則活性較小，內(nèi)離子則活性最小，在陶瓷原料的粉碎過程
中，隨著粉碎分散度有增加，則內(nèi)離子減少，面、角、棱離子增加
，即體系的活性加大，表2-2為簡立方晶系中，隨棱上離子數(shù)的增
加，面，棱，角離子所占總離子數(shù)百分值的變化情況。
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