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本文標題："晶粒內(nèi)氧化物化學計量實驗型多工圖像顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2016-1-4 1:50:41 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
晶粒內(nèi)氧化物化學計量實驗型多工圖像顯微鏡
這種被封閉于體內(nèi)的高壓氣體，也并不是完全不能通過面消失的，
這主要要看氣體的類型，下面分三種氣氛的情況來談。
第一種情況，如果封閉于體內(nèi)的是氮、氬一類原子半徑較大的氣體，
要想通過擠進正常晶格的填隙位置來擴散，則幾乎是不可能的，因為擴
散系統(tǒng)太小，即填隙激活能太大，1800℃的40大氣壓之下，仍很能完成
這種激發(fā)，氣體將達到某一平衡狀態(tài)而保留下來，不可能獲得致密陶瓷。
第二種情況，如果被封閉的是原子半徑極小的氬或氨等氣體，情況
將大不相同，在1800℃下和40個大氣壓的壓強差的推動之下，它將輕而
易舉地通過填隙擴散而通向自由表面，所以，氫、氬都是有得致密燒結(jié)
的氣氛，不過應該注意，氫氛有還原作用，高溫下可能使氧化物隱沒失
氧而產(chǎn)生化學計量比偏離，氛則沒有這種顧慮。
第三種情況，如果封閉于體內(nèi)氣孔中的是氧，則這是一個非常有趣
的問題，盡管氧原子的半徑和氮并不差多少，但氧氛燒結(jié)卻可以獲得致
密陶瓷，其奧妙之處就在于我們燒結(jié)的是氧化物隱沒，在1800℃有高溫
作用之下，氧化物品體的正常晶格之中，總會出現(xiàn)一定數(shù)量的正離子缺
位的氧離子缺位，即出現(xiàn)分子型肖特基缺陷，在閉氣附近高氧壓的作用
之下，過剩的氧將進入晶格結(jié)構(gòu)，與晶粒內(nèi)之氧缺位進行平衡，這時在
該處將產(chǎn)生氧缺位濃度的大大下降，和氧化物化學計量比的偏離，這時
相應地形成正離子缺位擴向氣孔，后者迫使正缺位向外擴散，其結(jié)果半
有利于高氧化的消失，即有利于氣孔的進一步收縮，最終將可以得到致
密度極高的陶瓷，上面的敘述，還沒有交待氧原子進入格點成為氧離子
時的電子交換問題，留下的電子將隨著正離子的擴散向氣泡處集中。
上面的分析，主要是針對陷入體內(nèi)的氣孔來談的，這結(jié)任何要想獲
得近乎理論密度陶瓷的情況說來，都是非常重要的，因為，即使采取了
阻滯措施，也并不保證所的氣孔都在粒界之中，即便是在粒界中之氣孔，
當采取有利于氣氛措施之后，也將排除得更加迅速，干凈，徹底。
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