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電子
顯微鏡分析通過再結(jié)晶退火,變形織構(gòu)保持不變
(首先是電子顯微術(shù)分析的結(jié)果),使得有可能比伯格斯和貝克
殳一般的去分析定向形核和長大的特殊機制問題(這種機制對某
些織構(gòu)的變化超作用)。討論變形織構(gòu)材料在退火中很可能出現(xiàn)的
以下三種類型的織構(gòu)變化.在方法學上是合理的:
(a)通過再結(jié)晶退火,變形織構(gòu)保持不變;
伯)在再結(jié)晶中,變形織構(gòu)被由一個或多個組分所組成的
不同的織構(gòu)全部或部分地取代,在再結(jié)晶的各個階段都能出現(xiàn)這
種取代:一次、二次或三次再結(jié)晶;在許多情況下.在再結(jié)晶早
期所形成的織構(gòu)被后期出現(xiàn)的其它織構(gòu)所取代;
(c)在再結(jié)晶中,變形織構(gòu)全部或部分地被任意取向的新
晶粒所取代,這種情況沒有前兩種普遍。
退火中變形織構(gòu)的保留
退火后,保留變形織構(gòu)機制的最簡單解釋是,具有與變形基
體相同位向的再結(jié)晶核心的定向形核是決定性的過程,以后將指
出,這個理論是正確的,但不完善。
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