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陶瓷的表面粗糙度是由它的
微觀結(jié)構(gòu)和密度而決定
為改善氧化鋁瓷的表面光潔度,提高蒸發(fā)薄膜零件的重復(fù)性,可
以在基片上采用上釉的方法,被釉基片多手在高精度、高可靠、高
穩(wěn)定的電路中,將來向高頻化,小型化發(fā)展。
陶瓷的表面粗糙度是由它的微觀結(jié)構(gòu)和密度而決定的,很顯然,
小尺寸晶粒組成的高密度陶瓷的表面必定比大晶粒組成的表面光滑
,因此,為了提高陶瓷的表面光潔度,必須進(jìn)一步發(fā)展高密度、高
純度、細(xì)晶粒的無氣孔陶瓷。
為了得到高致密的透明氧化鋁瓷,可采用熱壓燒結(jié),等靜壓成型
,超高溫和超高壓燒結(jié)等校等新工藝,為了區(qū)透明氧化鋁瓷,陶瓷
體內(nèi)不能包含剩余氣體,因為陶瓷內(nèi)部的氣孔會引走了光的散射,
為消除透明氧化鋁瓷的剩余氣孔,一種方法是采用高溫或摻雜,另
一種方法可采用熱壓燒結(jié),可以在摻入起控制晶粒邊界遷移作用的
添加物的情況下,在高壓和較低溫度下可以制得具有理論密度的透
明陶瓷。
綜上所述,氧化鋁瓷是裝置瓷中應(yīng)用最廣泛的一種陶瓷,由于
它性能優(yōu)良,因此用途愈來愈廣,絕緣子、電位器、電阻基體、厚
、薄膜電路及微波集成電路的基片和雷達(dá)窗口等。
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