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(點(diǎn)擊查看產(chǎn)品報(bào)價(jià))
予制裂紋的夏氏沖擊試驗(yàn)以下列兩種方式促進(jìn)解理斷裂:第一,
高應(yīng)變率使材料屈服強(qiáng)度增加;第二,由于予制裂紋尖端的高度三軸
應(yīng)力狀態(tài),使得在外加應(yīng)力一定的情況下,提高了局部拉伸應(yīng)力.在
這些因素的共同作用下,導(dǎo)致沖擊試樣比拉伸試樣產(chǎn)生高得多的局部
拉伸應(yīng)力。在這種高應(yīng)力狀態(tài)下,不僅滲碳體可在試樣全面屈服之先
破裂,而且和珠光體片間距一樣小的裂紋核心,就可象解理裂紋那樣
,通過相鄰的鐵素體和滲碳體而失穩(wěn)擴(kuò)展。
有效晶粒尺寸
前面已經(jīng)看到,雖然裂紋在珠光體晶團(tuán)邊界可能改變方向,但是
更常遇到的是它呈單一的解理面而穿越若干個(gè)珠光體晶團(tuán).因?yàn)榇蠖?/div>
數(shù)研究者認(rèn)為,在珠光體鋼中的解理裂紋沿鐵素體的,所以上述觀察
結(jié)果就意味著在這些相鄰晶團(tuán)中的解理面必須連續(xù)。透射電鏡薄膜觀
察表明,鐵素體的,面可穿過數(shù)個(gè)珠光體晶團(tuán)保持嚴(yán)格平行排列,從
而支持了上述假定,在奧氏體晶粒粗大的材料中,所檢查的幾乎65%
的隨意珠光體晶團(tuán)對(duì)中,相鄰晶團(tuán)鐵素體,面間的取向差約小于5°
。如果把取向差為10°左右的也計(jì)算在內(nèi)(小角度晶界),同時(shí)假定它
們?nèi)援a(chǎn)生一個(gè)單一的解理面,那么粗晶粒試樣中約有90%的珠光體晶
團(tuán)對(duì)可以產(chǎn)生一個(gè)宏觀上平整的斷裂面,而細(xì)晶粒試樣中則只占65%
如此高的百分率,與解理面的尺寸都比珠光體晶團(tuán)尺寸大許多倍這
個(gè)事實(shí)是相一致的。應(yīng)用包含斷口表面的離子研磨薄膜所進(jìn)行的透射
電鏡分析,以及相襯顯微組織分析提供了更直接的證據(jù),證實(shí)了在一
個(gè)單一解理面內(nèi)的珠光體晶團(tuán)的確具有相同的鐵素體取向.因?yàn)閿U(kuò)展
中的解理裂紋在錯(cuò)配邊界上必須改變方向,所以具有共同取向的相鄰
珠光體晶團(tuán)所組成的取向單元形成一個(gè)單個(gè)的解理面。正如我們已經(jīng)
討論過的那樣,材料韌性可能直接與顯微組織中這些錯(cuò)配邊界數(shù)目有
關(guān)。如果原奧氏體晶粒組織控制了珠光體中鐵素體的合成取向,那么
就充分說明了奧氏體晶粒尺寸對(duì)材料韌性影響的原因。
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