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本文標(biāo)題："物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)研究金相顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2016-7-12 16:09:45 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)研究金相顯微鏡
薄膜沉積方法
物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)是將材料原子逐個(gè)地從一
個(gè)或多個(gè)源轉(zhuǎn)移到基體上的沉積薄膜生長表面的最普遍的方法．氣相沉
積描述任何一個(gè)浸在氣相中的固體由于材料從氣相轉(zhuǎn)移到固體表面而使
其質(zhì)量變大的過程．沉積過程通常在真空室中進(jìn)行以便能夠控制氣相成
分．如果氣相通過物理方法產(chǎn)生而沒有化學(xué)反應(yīng)。這個(gè)過程被分類為PV
D；如果被沉積的材料是化學(xué)反應(yīng)的產(chǎn)物，這個(gè)過程被分類為CVD．為了
盡力平衡基于薄膜純度、結(jié)構(gòu)質(zhì)量、生長速率、溫度約束和其他因素所
要求的各種策略的利弊，已經(jīng)發(fā)展了許多不同的基本氣相沉積方法．在
這一節(jié)里．將對這些制備方法的顯著特點(diǎn)做一簡單介紹．如在本章的后
面幾節(jié)中將要介紹的，由于薄膜中的應(yīng)力狀態(tài)強(qiáng)烈地受其沉積歷史的影
響，制備是具有普遍意義的問題．物理氣相沉積
物理氣相沉積是一種憑借物理過程(例如蒸發(fā)、升華或離子撞擊靶
材)促使原子從固體或熔融的源轉(zhuǎn)移到基體上的技術(shù)．蒸發(fā)和濺射是兩
種應(yīng)用最廣泛的沉積薄膜的PVD方法．
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