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本文標題："工藝上對拋光表面光亮度制件檢測顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時間：2016-11-9 1:38:31 本站主頁地址：http://www.y7853.cn
工藝上對拋光表面光亮度制件檢測顯微鏡
工藝上對拋光表面光亮度要求較高的制件，其前處理工藝，是
機械拋光一電解拋光。
工藝上對拋光表面光亮度要求一般的制件，可選用一般純鋁(9
9％以上)及鋁—鎂合金，這時可只做機械拋光預處理。
配方21是一個應用范圍較廣的拋光工藝。拋光的最佳溫度
為110℃一120℃。拋光作業(yè)實際控制的溫度，應隨著溶液使用次數(shù)
的增多而逐漸升高，使越來越黏稠的拋光溶液具有較高的對流和擴
散能力。在補充拋光溶液(因使用較久而逐漸喪失拋光性能)的同時
，還應盡量減少被拋光制件表面黏附的拋光溶液，以免降低工藝損
耗，而且更便于水沖洗。反之，若不及時提高拋光溶液的使用溫度
，就會發(fā)生黏稠的拋光液比較牢固地黏附在拋光表面，造成水洗困
難，而且會使拋光表面發(fā)烏，或形成一層白色(或藍灰色)膜，影響
拋光表面的光澤。
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