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本文標(biāo)題："固態(tài)物含量的百分比-金屬加工分析顯微鏡"
新聞來(lái)源：未知 發(fā)布時(shí)間：2018-1-25 1:16:14 本站主頁(yè)地址：http://www.y7853.cn
固態(tài)物含量的百分比-金屬加工分析顯微鏡
固態(tài)物含量的百分比。然后將光刻膠覆蓋的硅片在低溫(80～1
00℃，20min)下進(jìn)行軟烘烤固化，再用掩模進(jìn)行遮蔽或投影來(lái)印刷
圖形①。掩模一般是一個(gè)帶有分度線的掩模板，由涂有遮光材料(
如鉻薄膜)的玻璃板做成，用濕法腐蝕和輔助光刻膠在其上做成圖
形，在這種情況下，用高分辨率的電子束書(shū)寫(xiě)機(jī)在光刻膠上直接書(shū)
寫(xiě)圖形。然后將掩模和襯底對(duì)準(zhǔn)照射光源[通常為紫外光(uV)]進(jìn)行
曝光，照射光透過(guò)掩模的空白部分，而其他部分則被鉻涂層遮擋。
照射效果取決于光刻膠的類型——正膠或負(fù)膠。當(dāng)正光刻膠被照射
曝光時(shí)，它在光刻膠顯影液中成為可溶性的，溶解后留下一個(gè)光刻
膠圖形，其形狀與鉻膜的形狀相同。反之，負(fù)光刻膠被照射曝光后
變得難溶于顯影液，留下的是鉻膜圖形的負(fù)像。最常用的是負(fù)光刻
膠，因?yàn)樨?fù)膠得到的效果較好。
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