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光學(xué)制造條紋不能稱為光學(xué)要素分析儀器
干涉儀
在眾多類型的干涉儀中.斐索干涉儀已成為光學(xué)制造領(lǐng)域典型
的干涉儀。在過(guò)去的幾十年中,商業(yè)測(cè)量?jī)x器取得了巨大的進(jìn)步,
包括相位測(cè)量?jī)x器、球面參考測(cè)量、條紋計(jì)數(shù)距離測(cè)量、數(shù)字成像
測(cè)量以及測(cè)量分析軟件。角度和長(zhǎng)度測(cè)量可以進(jìn)行特定儀器的集成
,比如拼接測(cè)量算法拓寬了數(shù)值孔徑、尺寸和非球面偏離量的限
制。
事實(shí)上.測(cè)量的基礎(chǔ)并沒(méi)有改變,但通常會(huì)被誤解:每個(gè)光學(xué)
技師都認(rèn)為“一個(gè)條紋為半個(gè)波長(zhǎng)”,這種說(shuō)法既不能稱作對(duì).也
不能稱作錯(cuò),只是不全面。當(dāng)被測(cè)表面的面形發(fā)生了半個(gè)波長(zhǎng)的變
化.測(cè)試波前傳播的物理距離包括入射和出射。那么在干涉平面上
的累積光程差就為一個(gè)波長(zhǎng).其表現(xiàn)為一個(gè)干涉條紋變化。因此,
當(dāng)使用商業(yè)干涉儀測(cè)量時(shí),必須使用正確的比例因子。
一個(gè)條紋間距總是代表干涉平面的一個(gè)波長(zhǎng)的光程差。
條紋不能稱為光學(xué)要素(組分).它只是兩束波前經(jīng)過(guò)不同光程
的干涉現(xiàn)象。
這一點(diǎn)主要是為了說(shuō)明.并不是每個(gè)測(cè)試裝置垂直入射時(shí)在返
回干涉平面之前都會(huì)兩次經(jīng)過(guò)被測(cè)面(或折射波前)。因此,我們必
須對(duì)光學(xué)路徑進(jìn)行追蹤.計(jì)算在每個(gè)相遇點(diǎn)的光程差,然后計(jì)算出
光程差對(duì)應(yīng)的條紋數(shù)。
雖然峰谷值(PV)的測(cè)量和這一測(cè)量參數(shù)仍然是最常見(jiàn)和最好理
解的,但是它們并不能與光學(xué)性能很好地聯(lián)系起來(lái),主要是其沒(méi)考
慮到傾斜誤差或者整個(gè)被影響區(qū)域。
干涉裝置
下面是利用斐索干涉儀的常見(jiàn)測(cè)量裝置的范例,其中彩色部分
是被測(cè)項(xiàng),其左側(cè)是斐索干涉儀的透射參考表面。
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