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本文標(biāo)題："掩膜材料表面分析便攜式圖像顯微鏡廠商"
新聞來(lái)源：未知 發(fā)布時(shí)間：2018-10-1 23:19:34 本站主頁(yè)地址：http://www.y7853.cn
掩膜材料表面分析便攜式圖像顯微鏡廠商
曝光后堅(jiān)膜
改善抗蝕劑抗蝕性能的另一種技術(shù)是曝光后堅(jiān)膜。工藝步驟是=涂膠，
曝光，然后再將版子在90℃下烘lOmln。這一措施是為了防止抗蝕劑在顯影
期間的浮膠問(wèn)題，其目的是為了提高抗蝕劑的抗蝕性能。曝光后堅(jiān)膜對(duì)平
滑的掩膜材料表面來(lái)說(shuō)更為有效。因?yàn)槠交谋砻嫱刮g劑的結(jié)合力較差
。曝光后堅(jiān)膜的突出優(yōu)點(diǎn)是能消除曝光時(shí)產(chǎn)生的駐波圖形和顯影前的部分
潛像。由于用了高反射率的襯底，駐波現(xiàn)象是一個(gè)普遍問(wèn)題。按照抗蝕劑
中增感劑受熱后將重新分布的理論，曝光后堅(jiān)膜確能消除駐波圖形，．改
善圖形的邊緣情況。-曝光后堅(jiān)膜的唯一缺點(diǎn)是，與一般的方法相比，顯影
逮率略有降低
另一個(gè)技術(shù)是在顯影后和后烘之前使抗蝕荊曝光；顯影后曝光能使抗
蝕劑中的氮?dú)饧霸绶懦�，使得抗蝕劑在后烘期間變得更致密。顯影后曝光
消除了在后烘期間由于氮?dú)獾尼尫哦纬傻尼樋祝ＷC了以后的刻蝕質(zhì)量
。 ·一 。
典型盼顯影后曝光工藝是。涂敷，前烘，曝光(成像)，顯影，然后再
用短波長(zhǎng)汞燈對(duì)抗蝕劑照射5一15s。這里關(guān)鍵的問(wèn)題是保證顯影后曝光的
時(shí)間與用于成像的曝光時(shí)間相匹配。顯影后曝光齡突出優(yōu)點(diǎn)是去膠方便，
大量的實(shí)踐已經(jīng)證明，正性抗蝕劑的顯影后曝光大大簡(jiǎn)化了去膠工藝。、
一般情況下正性抗蝕搿的前烘溫度較低，但已能基本保證抗蝕劑的粘附力
和抗蝕性能。
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